Резонансная установка для определения кинетики структурообразования матералов при положительных и отрицательных температурах
Номер предварительного патента: 8023
Опубликовано: 15.09.1999
Авторы: Иванов Дмитрий Михайлович, Мауль Василий Петрович, Кошкодан Сергей Иванович, Ахметов Иманали Сейдувалиевич
Формула / Реферат
Резонансная установка предназначена для определения кинетики структурообразования при твердении вяжущих материалов, например цемента, находящихся в условиях положительных и отрицательных температур.
Для определения кинетики структурообразования вяжущих материалов в условиях замораживания и оттаивания кювета с исследуемым содержимым помещается в камеру, оборудованную системой охлаждения и устройством по автоматическому поддержанию требуемой температуры.
Резонансная установка для определения кинетики структурообразования материалов при положительных, отрицательных температурах и последующем оттаивании позволяет оценить влияние различных физических, физико-химических и механических способов воздействия на структуру вяжущих материалов при использовании последних в зимних условиях.
МПК / Метки
МПК: G01N 29/00, G01N 33/28
Метки: структурообразования, отрицательных, резонансная, кинетики, определения, температурах, матералов, установка, положительных
Код ссылки
<a href="https://kzpatents.com/0-pp8023-rezonansnaya-ustanovka-dlya-opredeleniya-kinetiki-strukturoobrazovaniya-materalov-pri-polozhitelnyh-i-otricatelnyh-temperaturah.html" rel="bookmark" title="База патентов Казахстана">Резонансная установка для определения кинетики структурообразования матералов при положительных и отрицательных температурах</a>
Предыдущий патент: Болванка для ключа, ключ и комбинация из ключа и цилиндрового замка
Следующий патент: Способ предотвращения пыления промышленных гидроотвалов
Случайный патент: Биогазовая установка